它的主要功能是在光刻工艺中起到光掩模的传递和图案转移的作用。
通过将光刻胶涂覆在半导体基片上,然后使用光刻机将光掩模对其进行曝光,胶层中的光敏物质会发生化学变化,形成特定的图案。
这些图案可用于定义微电子器件的结构和电路的布局。
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