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氟化氮有毒吗

来源:懂视网 责编:小OO 时间:2024-03-19 00:06:45
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氟化氮有毒吗

三氟化氮,化学式NF3,常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,这些氟离子对硅和钨化合物,高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对氧化硅和硅),它在蚀刻时,在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂,同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。三氟化氮是低毒性物质,但是它能强烈刺激眼睛、皮肤和呼吸道粘膜,腐蚀组织。吸入高浓度NF3可引起头痛、呕吐和腹泻。长期吸入低浓度NF3能损伤牙齿和骨骼,使牙齿生黄斑,骨骼成畸形。与还原剂能发生强烈反应,引起燃烧爆炸。
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导读三氟化氮,化学式NF3,常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,这些氟离子对硅和钨化合物,高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对氧化硅和硅),它在蚀刻时,在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂,同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。三氟化氮是低毒性物质,但是它能强烈刺激眼睛、皮肤和呼吸道粘膜,腐蚀组织。吸入高浓度NF3可引起头痛、呕吐和腹泻。长期吸入低浓度NF3能损伤牙齿和骨骼,使牙齿生黄斑,骨骼成畸形。与还原剂能发生强烈反应,引起燃烧爆炸。

三氟化氮,化学式NF3,常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,这些氟离子对硅和钨化合物,高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对氧化硅和硅),它在蚀刻时,在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂,同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。三氟化氮是低毒性物质,但是它能强烈刺激眼睛、皮肤和呼吸道粘膜,腐蚀组织。吸入高浓度NF3可引起头痛、呕吐和腹泻。长期吸入低浓度NF3能损伤牙齿和骨骼,使牙齿生黄斑,骨骼成畸形。与还原剂能发生强烈反应,引起燃烧爆炸。

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三氟化氮,化学式NF3,常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,这些氟离子对硅和钨化合物,高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对氧化硅和硅),它在蚀刻时,在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂,同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。三氟化氮是低毒性物质,但是它能强烈刺激眼睛、皮肤和呼吸道粘膜,腐蚀组织。吸入高浓度NF3可引起头痛、呕吐和腹泻。长期吸入低浓度NF3能损伤牙齿和骨骼,使牙齿生黄斑,骨骼成畸形。与还原剂能发生强烈反应,引起燃烧爆炸。
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